Alpine Macro, Litografi Darboğazının Çin’i Engellediğini Belirtirken, Pekin’in “Miktar Odaklı” Stratejisinin Farkı Kapattığı Uyarısında Bulundu
Yatırım araştırma şirketi Alpine Macro, ABD ile Çin arasındaki teknoloji yarışının en kritik cephesi olan yarı iletkenler konusunda kapsamlı bir analiz yayımladı. Rapora göre, Çin yüksek teknolojili çip tasarımında etkileyici bir ilerleme kaydederek ABD’li rakiplerine yaklaşmış olsa da, gelişmiş çipleri seri olarak üretebilmesini engelleyen yapısal bariyerlerle karşı karşıya.
Alpine Macro stratejisti Noah Ramos, Huawei’nin “çip tasarımı açısından Nvidia ile oyun alanını neredeyse eşitlemiş olsa da“, Çin’in en büyük engelinin litografi darboğazı olduğunu belirtti. Raporda, Huawei’nin 3 nanometrelik bir çip tasarlayabilse bile, “bunu üretecek fabrikasyon kabiliyetinden yoksun olacağı” ve bu durumun Çin’in ilerlemesini yavaşlattığı vurgulandı. Çin’in en büyük zayıflığının, aşırı ultraviyole (EUV) litografi sistemlerini üretememesi olduğu ifade edildi.
Ancak rapor, ABD’nin bu konuda bir “rehavete” kapılmaması gerektiği uyarısında da bulunuyor. Analistler, Çin’in bireysel çip performansındaki eksikliklerini sistem düzeyinde telafi ettiğini savunuyor. Çin’in daha ucuz elektriği, daha büyük elektrik şebekesi ve devlet destekli dağıtım modeli, daha az verimli çipleri daha fazla sayıda kullanarak ABD’li rakiplerinin hesaplama gücüne ulaşmasını sağlıyor. Örneğin, Huawei’nin, Nvidia’nın performansına eşleşmek için yaklaşık beş kat daha fazla Ascend çipi kullandığı belirtiliyor.
Ramos, “ABD’nin liderliğinin on yılın sonuna kadar tamamen ortadan kalkması beni şaşırtır” derken, Çin’in miktar odaklı stratejisinin performans açığını anlamlı bir şekilde daraltabileceği ve “ABD’nin ’üstünlüğü’nün azaldığı” sonucuna varıyor.
Finans Hattı Yorumu: Alpine Macro’nun bu analizi, çip savaşının siyah-beyaz bir resimden çok, gri tonların hakim olduğu karmaşık bir mücadele olduğunu gözler önüne seriyor. Raporun en önemli tespiti, yarışı “tasarım” ve “üretim” olarak ikiye ayırmasıdır. Çin, özellikle Huawei üzerinden, devletin de muazzam desteğiyle tasarım konusunda arayı hızla kapatıyor. Bu, Çin’in yetenek ve inovasyon kapasitesini küçümsememek gerektiğini gösteriyor.
Ancak savaşın asıl düğümlendiği yer üretim, yani fabrikasyon. Ve bu alanda Batı’nın, özellikle de Hollandalı ASML şirketinin ürettiği EUV litografi makineleri üzerindeki tekeli, şimdilik aşılamaz bir kale gibi duruyor. Çin, en iyi çipi tasarlasa bile, onu en üst kalitede ve verimlilikte seri olarak üretecek makinelere sahip değil. Bu, ABD’nin ihracat kontrollerinin ne kadar kritik ve etkili bir silah olduğunun kanıtıdır.
Raporun en stratejik uyarısı ise Çin’in bu teknolojik eksikliği “kaba kuvvetle” aşma stratejisidir. Daha az verimli olan kendi çiplerini, devlet sübvansiyonlarıyla bedavaya getirdiği elektrikle ve devasa ölçekte kullanarak sistem düzeyinde ABD’nin performansını yakalamaya çalışması, son derece akıllıca bir endüstriyel politikadır. Bu, “tek tek çiplerin kalitesi kadar, sistemin toplam hesaplama gücü ve maliyeti de önemlidir” mesajını veriyor. Yani Çin, “nitelik” yarışında geride kalsa da, “nicelik” ile arayı kapatmaya çalışıyor. Bu durum, ABD’nin sadece en iyi çipi üretmenin yeterli olmadığını, aynı zamanda enerji maliyetleri ve altyapı gibi destekleyici unsurlarda da rekabetçi kalması gerektiğini hatırlatan önemli bir uyarıdır. Yarış, sadece laboratuvarda değil, aynı zamanda elektrik santrallerinde ve devlet planlama ofislerinde de devam ediyor.
